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濺射技術(shù)：濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，2n金靶材廠家，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，2n金靶材廠，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
什么是靶材綁定？靶材綁定的適用范圍、流程？
綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來。主要有三種的方式：壓接、釬焊和導(dǎo)電膠。
1.壓接：采用壓條，2n金靶材報(bào)價(jià)，一般為了提高接觸的良好性，會(huì)增加石墨紙、pb或in皮；
2.釬焊：一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20w/cm2，釬料常用in、sn、in-sn；我司采用銦焊綁定技術(shù)。
3.導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。
在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，cof~cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的tbfeco合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光盤具有存儲(chǔ)容量大，壽命長(zhǎng)，2n金靶材，可反復(fù)無接觸擦寫的特點(diǎn)。如今開發(fā)出來的磁光盤，具有tbfeco/ta和tbfeco/al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，tbfeco/ai結(jié)構(gòu)的kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58，而tbfecoffa則可以接近0.8。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l*電強(qiáng)度。
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